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XRD-Mill McCrone專為X射線衍射（XRD）分析的樣品制備而研發(fā)，主要應用于地質(zhì)學、化學、礦物學、材料科學、質(zhì)量控制以及研發(fā)等。
XRD-Mill McCrone專為X射線衍射（XRD）分析的樣品制備而研發(fā)，主要應用于地質(zhì)學、化學、礦物學、材料科學、質(zhì)量控制以及研發(fā)等。
XRD-Mill McCrone具有獨特的研磨方式：研磨塊的運動為線性撞擊和平面剪切兩種方式，所以研磨時間短，幾乎沒有樣品損失，得到特別窄的粒徑分布。晶格在研磨過程中幾乎完全保留。
研磨容器是一個125 ml容量的聚丙烯罐，配一個無墊圈螺帽的聚乙烯蓋。研磨罐被48個有序排列的圓柱形研磨塊充滿，材質(zhì)有瑪瑙，氧化鋯和剛玉。最佳的磨時間是在3-30分鐘，典型的樣品體積是在2-4 ml之間。
應用實例
硼化物, 黏土, 云母, 氮化物, 石板, 建筑原料, 植物原料, 水泥, 玻璃, 礦物, 碳化物, 金屬, 陶瓷, 骨頭
優(yōu)點
研磨過程中晶格被保留
粒徑分布窄
幾乎沒有交叉污染
緊湊、桌面型機型
可調(diào)研磨功率(4步)
適合于干磨和濕磨
清洗方便
免維護
運行安靜
作用原理
XRD-Mill McCrone主要依靠摩擦力研磨樣品。48個圓柱形的研磨塊在罐內(nèi)排成8排，每排6件。在運行過程中，罐子做圓周運動，研磨塊把樣品從小于0.5 mm研磨到亞微米水平（通常小于10 um）。由于研磨過程很溫和，所以晶格可以完整保留。這使得XRD-Mill McCrone成為X射線衍射分析樣品制備的最佳選擇。
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應用 |
搗磨、混和與研磨制樣；干磨或濕磨 |
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應用領域 |
X-ray 衍射 |
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樣品特征 |
中硬性, 硬的, 脆性的, 含纖維的 |
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最大進樣尺寸 |
<0.5毫米 |
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最終出料粒度 * |
< 1 μm |
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網(wǎng)頻50赫茲（60赫茲）下的轉(zhuǎn)速 |
1,000 - 1,500 min-1 4步 |
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研磨平臺數(shù) (可接納研磨罐數(shù)) |
1 |
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典型粉碎時間 |
3 - 30 min |
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干磨 |
是 |
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濕磨 |
是 |
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低溫研磨 |
- |
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研磨套件材料： |
瑪瑙, 氧化鋯, 金剛石 |
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研磨罐尺寸 |
125 ml |
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粉碎時間設定 |
數(shù)字顯示，00:00:01 至 99:59:50 |
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驅(qū)動 |
DC-Motor |
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驅(qū)動功率 |
50W |
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電源數(shù)據(jù)： |
220-240 V, 50/60 Hz |
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電源接頭： |
單相 |
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防護類型 |
IP 30 |
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接受功率 |
100W |
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機體尺寸（寬x高x縱深） |
205 x 155 x 520 mm |
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凈重 |
~19 kg |
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標準 |
CE |
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